SiC ploča za ICP jetkanje

Zahtjevi za značajke: Optimizirano za zahtjevna plazma okruženja

Kako bi se zadovoljili strogi zahtjevi ICP okruženja za jetkanje, SiC ploča mora imati sljedeće osnovne karakteristike:

● Izvrsna toplinska vodljivost

SiC ima izuzetno visoku toplinsku vodljivost, daleko veću od one tradicionalnih materijala poput kvarca ili aluminijevog oksida. To znači da može učinkovito odvoditi toplinu nastalu tijekom procesa jetkanja dalje od pločice, učinkovito sprječavajući lokalno pregrijavanje.

Prednosti: Osigurava ujednačenu temperaturu po cijeloj površini pločice, što rezultira vrlo konzistentnom kontrolom dubine jetkanja i kritične dimenzije (CD), značajno poboljšavajući prinos i smanjujući otpad pločice.

● Vrhunska otpornost na udarce plazme

U plazma okruženju ICP jetkanja, materijal će biti izložen bombardiranju visokoenergetskim ionima i kemijskoj koroziji aktivnih slobodnih radikala. SiC ima izvrsnu otpornost na plazmu, posebno u plinovima za jetkanje koji sadrže fluor ili klor.

Prednosti: Znatno produžite vijek trajanja nosača pločice, smanjite učestalost zamjene i vrijeme zastoja, čime se smanjuju operativni troškovi i poboljšava iskorištenost opreme. Istovremeno, stabilna svojstva materijala također smanjuju rizik od kontaminacije česticama.

● Izvanredna ujednačenost temperature

U kombinaciji s visokom toplinskom vodljivošću i niskim koeficijentom toplinskog širenja, SiC nosači mogu održavati izvrsnu ujednačenost temperature po cijeloj površini pločice. To je ključno za precizno jetkanje, posebno za osjetljive materijale poput GaN-a.

Prednosti: Osigurajte dosljedno graviranje za svaki uređaj, smanjite varijacije u performansama uređaja i pružite vrhunsku kvalitetu i pouzdanost svojih LED proizvoda.

Ove značajke su ključne za postizanje ponovljivog i preciznog nagrizanja u izradi LED pločica.

Zašto odabrati Semixlab: Prilagođena rješenja. Pouzdana kvaliteta.

Odabirom Semixlaba birate performanse, pouzdanost i prilagođene usluge:

1. Dostupne su razne specifikacije i pružaju se prilagođene usluge:

Dobro smo svjesni da različita ICP oprema i procesi jetkanja imaju jedinstvene zahtjeve za veličinu nosača pločica, položaj rupe i metodu stezanja. Semixlab nudi niz standardnih specifikacija nosača SiC pločica kako bi zadovoljio potrebe glavnog tržišta.

Što je još važnije, pružamo profesionalne usluge prilagodbe. Bez obzira trebate li posebne veličine, složene strukturne dizajne ili optimizaciju za specifične procese, naš inženjerski tim može blisko surađivati ​​s vama kako bi pružio rješenja po mjeri. To znači da možete dobiti nosač koji savršeno odgovara vašoj opremi i procesu, maksimizirajući učinkovitost proizvodnje i prinos.

2. Stabilna kvaliteta i brza dostava

Naš rigorozni sustav kontrole kvalitete osigurava dosljednost u svim serijama, dok naša učinkovita proizvodnja i logistika jamče brze rokove isporuke, pomažući vam da ispunite stroge proizvodne rokove.

Vjerujte Semixlabu – vašem partneru za SiC materijale u naprednom plazma jetkanju

S dugogodišnjim iskustvom u industriji poluvodičkih premaza, Semixlab kombinira duboko znanje o materijalima, najsuvremeniju obradu i uslugu usmjerenu na kupca kako bi isporučio komponente koje poboljšavaju stabilnost procesa i kvalitetu proizvoda.

Primjena: Dizajnirano za ICP jetkanje u LED industriji

U naprednom procesu proizvodnje LED dioda, ICP (induktivno spregnuta plazma) nagrizanje je ključni korak za postizanje preciznog mikro-uzorkovanja na poluvodičkim pločicama. Semixlabova SiC ploča funkcionira kao vrlo pouzdan nosač ili držač pločice tijekom ICP procesa nagrizanja. Njegova robusna svojstva materijala osiguravaju stabilnost procesa čak i u ekstremnim uvjetima plazme, što ga čini bitnom komponentom za visokoprinosne i visokoujednačene proizvodne linije LED dioda.